Čínsky polovodičový priemysel sa nepochybne rozvíja a dosahuje významné výsledky. V pozadí však pretrvávajú mnohé problémy, ktoré firmám komplikujú vývoj technológií ďalšej generácie. Upozornili na to poprední čínski odborníci a predstavitelia polovodičového priemyslu. Podľa nich čínske alternatívy výrobných zariadení holandského litografického gigantu ASML nie sú dostatočne konkurencieschopné. Čínsky priemysel výroby čipov je totiž príliš malý, roztrieštený a slabý na to, aby vlastnými silami prekonal ťažkosti spôsobené americkými vývoznými obmedzeniami. Na situáciu sa podobne pozerajú spoluzakladateľ SMIC Wang Yangyuan, vedenie významného výrobcu pamätí YMTC, výrobcu zariadení na výrobu čipov Naura aj spoločnosti Epyrean, ktorá vyvíja softvér na návrh čipov.
Podľa odborníkov vývozné obmedzenia zavedené vládou Spojených štátov brzdia rozvoj čínskeho polovodičového priemyslu v troch hlavných oblastiach: v softvéri na automatizáciu elektronického návrhu (EDA), vo výrobe kremíkových doštičiek a v zariadeniach na výrobu čipov. V poslednej z týchto oblastí je problémom najmä nedostatok litografických skenerov EUV, bez ktorých podľa nich jednoducho nemožno vyrábať čipy výrobnými procesmi pod 7 nm.
V otvorenom liste adresovanom firmám v odvetví sa odborníci vyjadrili jednoznačne: priemysel sa musí vzdať ilúzií a pripraviť sa na boj. Dodali, že značne roztrieštený systém verejného financovania rozdeľuje prostriedky medzi priveľa navzájom si konkurujúcich iniciatív bez toho, aby prinášal výsledky.
Čína sa v čase vzniku článku pripravovala na predstavenie 15. päťročného plánu, o ktorom sa podrobnosti očakávali už v týždni od 16. do 22. marca 2026. Plán na obdobie rokov 2026 až 2030 počíta s výraznou podporou vývoja litografických technológií, pričom medzi priority sa môže zaradiť aj vývoj softvéru EDA. V rámci programu Big Fund III bolo na podporu rozvoja polovodičového priemyslu vyčlenených približne 47,5 miliardy dolárov. Cieľom je umožniť vznik čínskych alternatív zariadení ASML a nástrojov Synposys.
V litografii Čína výrazne zaostáva. Jej najpokročilejší litografický skener DUV, ktorý vyvinula spoločnosť Yuliangsheng, môže byť približne na úrovni ASML Twinscan NXT:1950i. Ide pritom o zariadenie pre výrobné procesy triedy 32 nm, ktoré vzniklo ešte v roku 2008. Aj keby sa SMIC podarilo tento čínsky skener do konca roka 2027 začleniť do 28 nm výrobného procesu, na prechod na procesy pod 10 nm by boli potrebné nové skenery a ich vývoj by si vyžiadal niekoľko rokov práce. Hoci prototyp skenera EUV je už k dispozícii, pred jeho komerčným nasadením treba najprv dosiahnuť stabilnú výťažnosť výroby. To nie je jednoduché – ASML na to pri vlastnom prototype potrebovala takmer dve desaťročia práce.
ASML navyše nemala k dispozícii iba vlastné know-how, ale aj rozsiahly dodávateľský reťazec s viac než 5 000 subdodávateľmi. Využiť mohla aj údaje zhromažďované počas niekoľkých desaťročí, ktoré zachytávajú skúsenosti s hromadnou výrobou. Čínske firmy takéto zázemie nemajú, hoci sa technológie a postupy snažia zrekonštruovať spätnou analýzou hotových zariadení.
Netreba však zabúdať, že v niektorých oblastiach je čínsky priemysel veľmi úspešný. Naura napríklad podľa tržieb patrí medzi desať najväčších svetových výrobcov zariadení pre polovodičový priemysel. V litografii však Čína naďalej výrazne zaostáva a roztrieštený systém podpory tento stav ešte zhoršuje.
