Čínska vláda sústavne pracuje na tom, aby bola sieť tamojších zmluvných výrobcov polovodičov dostatočne konkurencieschopná. Zároveň chce, aby si Čína ukrojila poriadny kus z rozmachu umelej inteligencie, pričom sa sústreďuje najmä na uspokojenie domáceho dopytu.
Vďaka štedrej štátnej podpore zaznamenal čínsky polovodičový priemysel v posledných rokoch výrazný pokrok. Dnes už dokáže vyrábať aj vlastné imerzné litografické zariadenia DUV. Podľa portálu The Information zdroje s dôvernou znalosťou diania v odvetví pod podmienkou anonymity uviedli, že v roku 2026 by mohlo vzniknúť päť čínskych zariadení DUV a v priebehu roka 2027 ďalších 20. Tamojšiemu polovodičovému priemyslu pomôžu získať alternatívny zdroj zariadení vyvinutých a vyrobených priamo v Číne.
Hoci tieto imerzné litografické zariadenia DUV pozostávajú prevažne zo súčiastok vyvinutých a vyrobených v Číne, pri niektorých dôležitých komponentoch je krajina stále odkázaná na dovoz. Niektoré kľúčové súčiastky prichádzajú z Japonska. Čakanie na dovoz a meškanie domácich dodávateľov môžu spôsobiť, že sa v roku 2026 vyrobí menej zariadení, než sa plánovalo. Sériová výroba sa však aspoň môže rozbehnúť.
Za novými zariadeniami stojí niekoľko menej známych čínskych spoločností, napríklad Shanghai Yiliagsheng Technology, ktorej zariadenia už istý čas testuje veľký čínsky zmluvný výrobca polovodičov SMIC. Projekt vedie štátna spoločnosť Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, ktorá združuje tímy viacerých čínskych startupov z oblasti litografie.
Medzi objednávateľmi nových imerzných litografických zariadení figurujú viaceré veľké čínske spoločnosti vrátane SMIC, Hua Hong Semiconductor a CXMT. Imerzné litografické zariadenia DUV pri jedinom prenose vzoru na povrch kremíkového waferu štandardne umožňujú výrobu 28 nm procesom. Viacnásobným vzorovaním sa s nimi dá dostať až na 7 nm, výrobný proces sa však tým komplikuje, pribúda možných chýb a úmerne tomu klesá výťažnosť.
Pre Čínu je napriek tomu dôležité postupne znižovať závislosť od zahraničných dodávateľov aj v oblasti litografických zariadení. Ak totiž americká vláda zavedie ďalšie obmedzenia, krajina môže stratiť prístup aj k zariadeniam, ktorých dodávky sú v súčasnosti povolené. Teoreticky si síce môže stroje zaobstarať obchádzkami, v takom prípade však nebude mať k dispozícii technickú podporu ani servis, keďže aj tie podliehajú obmedzeniam.
V reakcii na tieto správy sa cena akcií ASML prudko prepadla o 8 % a neskôr klesla o ďalších 1,6 %. Informácie šokovali aj firmy v odvetví. Podľa analytikov však čínske imerzné litografické zariadenia DUV zatiaľ nepredstavujú hrozbu, pretože kvalitou aj výťažnosťou budú výrazne zaostávať za produktmi lídra trhu ASML. ASML pritom naďalej dodáva výrobné zariadenia do Číny, no z tejto krajiny už môže pochádzať len 20 % jeho tržieb oproti 33 % v roku 2025.
Podľa hodnotenia analytikov AI Futures Project z júna 2026 budú čínske imerzné litografické zariadenia DUV pripravené na komerčné nasadenie vo väčšom rozsahu až v polovici roka 2030. Výkonom a kvalitou pritom budú zaostávať za produktmi ASML. V oblasti EUV je odstup ešte väčší a potrvá roky, kým vzniknú dostatočne konkurencieschopné čínske výrobné zariadenia. Podľa správ z decembra 2025 však Čína už má funkčný prototyp EUV. Snaží sa teda svoj náskok dobehnúť čo najskôr, no nebude to jednoduché, rýchle ani lacné.
